경질 양극 산화는 후막 양극 산화 처리 방법으로, 일반 양극 산화 처리와 공정이 거의 동일합니다. 내마모성, 내열성 및 절연성이 뛰어나며, 절연 파괴 전압은 2000볼트에 달합니다. 방위 산업 및 기타 기계 부품에 널리 사용됩니다.
경질 아노다이징과 일반 아노다이징의 차이점
1. 필름 두께일반적인 산화막은 비교적 얇습니다. 경질 양극 산화막의 두께는 15미크론 이상이며, 이론적인 최대 두께는 250미크론에 달할 수 있습니다.
2. 표면 상태일반적인 양극 산화 처리된 표면은 비교적 매끄러운 반면, 경질 양극 산화 처리된 표면은 비교적 거칠다(미시적 관점에서 기판의 표면 조도와 관련됨).
3. 다공성일반 산화 처리의 다공성은 경질 산화 처리보다 높습니다.
4. 일반적인 산화막은 투명한 막입니다. 경질 양극 산화막은 비교적 두껍기 때문에 불투명한 막입니다.
5. 사용 환경일반적인 산화 처리는 장식 목적으로 사용됩니다. 경질 양극 산화 처리는 기능 지향적이며, 일반적으로 내마모성 및 내전기성 환경에 사용됩니다.
현재 대부분의 제조업체는 기존의 경질 크롬 도금을 대체하기 위해 경질 아노다이징을 사용하고 있습니다. 경질 크롬 도금에 비해 비용이 저렴하고, 피막 접착력이 우수하며, 도금 용액 폐수 처리가 간편하다는 장점이 있습니다.
단점은 필름 두께가 두꺼워지면 알루미늄 및 알루미늄 합금의 기계적 피로 강도 지수에 영향을 미친다는 것입니다.
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게시 시간: 2022년 6월 13일